2025年8月1日，由半导体在线举办的2025年先进光刻技术研讨会在苏州成功举办。此次研讨会旨在促进先进光刻技术领域的学术交流与产业合作，探讨最新技术进展、工艺优化及未来发展方向。
SMC桑德斯中国区市场经理俞杰铭在研讨会上发表了“国产光刻设备在桑德斯功率半导体光刻工艺中的推进”主题报告，介绍了国产全自动涂胶和显影等光刻设备在我司生产工艺中的应用与推进。
主题报告中谈到了桑德斯所用光刻相关设备机台以及所用化学品，并着重对光刻胶、光刻机、光刻机等的选择考量、测试指标和关键数据等进行了阐述和介绍。其中涉及全芯微等国产设备品牌，也提到了NIKON等国际一线光刻品牌。
随着制程工艺不断推进，光刻机的技术也在不断发展，新兴光刻技术如极紫外光刻（EUV）、电子束光刻（EBL）等不断涌现。此外，随着纳米技术和材料科学的进步，光刻设备的性能有望进一步提升，推动半导体产业进入更先进的技术时代。
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